《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志好發(fā)表嗎？
來(lái)源：優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 11:00:46 385人看過(guò)
《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志是一本專注于物理與天體物理領(lǐng)域的期刊，發(fā)表難度因多種因素而異，以下是具體分析：
《微/納米光刻、MEMS 和 MOEMS 雜志》（JM3）發(fā)表同行評(píng)審的論文，內(nèi)容涉及光刻、制造、封裝和集成技術(shù)的科學(xué)、開(kāi)發(fā)和實(shí)踐，這些技術(shù)對(duì)于滿足電子、微機(jī)電系統(tǒng)、微光機(jī)電系統(tǒng)和光子學(xué)行業(yè)的需求必不可少。
發(fā)表難度
影響因子與分區(qū)：《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志的屬于JCR分區(qū)Q3區(qū)，中科院分區(qū)中大類學(xué)科物理與天體物理為2區(qū)， 小類學(xué)科ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程：電子與電氣為3區(qū)，較高的影響因子和較好的分區(qū)表明其在學(xué)術(shù)界具有較高的影響力和認(rèn)可度，因此對(duì)稿件的質(zhì)量要求也相對(duì)較高，發(fā)表難度較大。
歷年IF值(影響因子)：
WOS分區(qū)（數(shù)據(jù)版本：2023-2024年最新版）
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 187 / 275 |
32.2% |
| 學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 255 / 342 |
25.6% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 91 / 107 |
15.4% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q3 | 68 / 100 |
32.5% |
名詞解釋：
WOS即Web of Science，是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫(kù)，Web of Science包括自然科學(xué)、社會(huì)科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息，來(lái)自全世界近9,000種最負(fù)盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會(huì)議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時(shí)會(huì)按照某一個(gè)學(xué)科領(lǐng)域劃分，根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名，然后平均分成4等份，期刊影響因子值高的就會(huì)在高分區(qū)中，最后的劃分結(jié)果分別是Q1，Q2，Q3，Q4，Q1代表質(zhì)量最高。
審稿周期預(yù)計(jì)：平均審稿速度 較慢,6-12周 ，審稿周期也體現(xiàn)了編輯部對(duì)稿件質(zhì)量的嚴(yán)格把關(guān)。
發(fā)表建議
提高稿件質(zhì)量：確保研究?jī)?nèi)容具有創(chuàng)新性和學(xué)術(shù)價(jià)值，語(yǔ)言表達(dá)清晰準(zhǔn)確，符合雜志工程：電子與電氣的格式和要求。
提前準(zhǔn)備：根據(jù)審稿周期，建議作者提前規(guī)劃好研究和寫(xiě)作進(jìn)度，以便有足夠的時(shí)間進(jìn)行修改和補(bǔ)充。同時(shí)，可以關(guān)注《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志的約稿信息，如果能夠獲得約稿機(jī)會(huì)，發(fā)表的可能性會(huì)更大。
聲明：以上內(nèi)容來(lái)源于互聯(lián)網(wǎng)公開(kāi)資料，如有不準(zhǔn)確之處，請(qǐng)聯(lián)系我們進(jìn)行修改。
