《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志在中科院分區(qū)中的情況如下：大類學(xué)科：物理與天體物理， 分區(qū)：2區(qū)； 小類學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程：電子與電氣， 分區(qū)：3區(qū)。

中科院分區(qū)決定了SCI期刊在學(xué)術(shù)界的地位和影響力，對科研人員和學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)具有重要的參考價值，具體如下：

對SCI期刊的評價：中科院分區(qū)通過將SCI期刊按照3年平均影響因子劃分為不同的等級，為科研人員和學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)提供了一個評估SCI期刊學(xué)術(shù)影響力的重要依據(jù)。分區(qū)越高，說明該期刊在學(xué)科內(nèi)的學(xué)術(shù)影響力越大，發(fā)表的文章質(zhì)量越高。

對科研人員的成果評估：科研人員發(fā)表的論文所在的中科院分區(qū)，可以作為評估其研究成果質(zhì)量的一個指標(biāo)。

對科研資源的分配：中科院分區(qū)在科研資源分配方面也起到重要作用。科研機(jī)構(gòu)在制定科研政策、分配科研資源時，會參考中科院分區(qū)。

對科研人員投稿的指導(dǎo)：中科院分區(qū)為科研人員選擇投稿期刊提供了參考。科研人員在選擇投稿期刊時，會參考中科院分區(qū)，以提高論文被接受的可能性，并增加研究成果的影響力。

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志是一本專注于工程：電子與電氣領(lǐng)域的國際期刊，由SPIE?出版，創(chuàng)刊于2007年，出版周期為Quarterly。

《微/納米光刻、MEMS 和 MOEMS 雜志》（JM3）發(fā)表同行評審的論文，內(nèi)容涉及光刻、制造、封裝和集成技術(shù)的科學(xué)、開發(fā)和實踐，這些技術(shù)對于滿足電子、微機(jī)電系統(tǒng)、微光機(jī)電系統(tǒng)和光子學(xué)行業(yè)的需求必不可少。

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志學(xué)術(shù)影響力具體如下：

JCR分區(qū)：Q3

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)，在學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC中為Q3，排名：187 / 275，百分位：32.2%；MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY中為Q3，排名：255 / 342，百分位：25.6%；NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY中為Q4，排名：91 / 107，百分位：15.4%；OPTICS中為Q3，排名：68 / 100，百分位：32.5%；

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志的審稿周期預(yù)計為：平均審稿速度 較慢,6-12周 ，投稿需滿足English撰寫，期刊注重原創(chuàng)性與學(xué)術(shù)嚴(yán)謹(jǐn)性，明確拒絕抄襲或一稿多投，Gold OA占比：7.69%，這使得更多的研究人員能夠免費獲取和引用這些高質(zhì)量的研究成果。

該雜志其他關(guān)鍵數(shù)據(jù)：

CiteScore分區(qū)（數(shù)據(jù)版本：2024年最新版）：3.4，進(jìn)一步證明了其學(xué)術(shù)貢獻(xiàn)和影響力。

H指數(shù)：37，年發(fā)文量：0篇

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