《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志查重率過高通常很難過審，論文的重復率是一個重要的考量因素，不同的期刊要求不一樣，通常來說，SCI論文查重率一般建議低于15%或者20%以下，投稿都比較安全。總的來說，保持論文的原創性和獨特性是關鍵。

該雜志是國際知名的學術出版物，對論文的原創性和學術質量有著極高的要求。查重率過高往往被視為學術不端行為的一種表現，如抄襲或過度引用他人成果，這嚴重違反了學術誠信原則。

如果查重率過高，常會采取以下措施：

1、直接拒稿：對于查重率明顯超標的論文，SCI期刊往往會直接拒絕接受其發表。這是為了保護學術界的原創性和誠信，避免抄襲等學術不端行為的傳播。

2、要求修改并重審：在某些情況下，如果論文的查重率雖然較高，但其中存在合理的引用和解釋，期刊編輯部可能會要求作者進行修改并重審。然而，這種情況相對較少，且修改后的論文仍需滿足期刊的原創性要求。

因此，投稿前最好使用專業查重工具檢測并優化重復內容。

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志（ISSN: 1932-5150，ESSN：1932-5134）是一本專注于ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC - NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY的國際SCI期刊，由SPIE出版，創刊于2007年，出版周期為Quarterly。

該雜志主要發表由領域內專家撰寫的短篇文章，旨在以簡明易懂的方式呈現工程：電子與電氣的最新研究進展，特別適合尚未深入該領域的科研人員閱讀。

JCR分區為Q3（ 按JIF指標學科分區中學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC中為Q3，排名：187 / 275，百分位：32.2%；MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY中為Q3，排名：255 / 342，百分位：25.6%；NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY中為Q4，排名：91 / 107，百分位：15.4%；OPTICS中為Q3，排名：68 / 100，百分位：32.5%； ）。

CiteScore為3.4，(CiteScore排名為大類：Engineering，小類：Mechanical Engineering，分區：Q2，排名：299 / 672，百分位：55%； 大類：Engineering，小類：Electrical and Electronic Engineering，分區：Q2，排名：389 / 797，百分位：51%； 大類：Engineering，小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics，分區：Q3，排名：113 / 224，百分位：49%； 大類：Engineering，小類：Condensed Matter Physics，分區：Q3，排名：223 / 434，百分位：48%； 大類：Engineering，小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials，分區：Q3，排名：155 / 284，百分位：45%； )

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志是一本歷史悠久、聲譽良好的物理與天體物理期刊，以其高質量、易讀性和前沿性在學術界占據重要地位。