《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志好發表嗎?
來源:優發表網整理 2024-09-18 11:04:00 407人看過
《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志是一本專注于物理與天體物理領域的期刊,發表難度因多種因素而異,以下是具體分析:
本期刊發表有關等離子體化學和等離子體處理基礎和應用研究的原創論文,范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎研究以及特定等離子體應用的研究。此類應用包括但不限于等離子體催化、環境處理(包括液體和氣體處理)、等離子體的生物應用(包括等離子體醫學和農業)、表面改性和沉積、粉末和納米結構合成、能源應用(包括等離子體燃燒和重整)、資源回收、等離子體與電化學的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學動力學研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用,例如相關的等離子體化學、等離子體物理或等離子體-表面相互作用;僅考慮使用等離子體處理的材料或物質的性質的稿件不在本期刊的范圍內。
發表難度
影響因子與分區:《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志的影響因子為2.6,屬于JCR分區Q2區,中科院分區中大類學科物理與天體物理為3區, 小類學科ENGINEERING, CHEMICAL工程:化工為3區,較高的影響因子和較好的分區表明其在學術界具有較高的影響力和認可度,因此對稿件的質量要求也相對較高,發表難度較大。
歷年IF值(影響因子):
WOS分區(數據版本:2023-2024年最新版)
| 按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科:ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q3 | 91 / 170 |
46.8% |
| 學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55% |
| 學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 12 / 40 |
71.3% |
| 按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科:ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q2 | 55 / 171 |
68.13% |
| 學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 69 / 179 |
61.73% |
| 學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 17 / 40 |
58.75% |
名詞解釋:
WOS即Web of Science,是全球獲取學術信息的重要數據庫,Web of Science包括自然科學、社會科學、藝術與人文領域的信息,來自全世界近9,000種最負盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學術會議多學科內容。給期刊分區時會按照某一個學科領域劃分,根據這一學科所有按照影響因子數值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會在高分區中,最后的劃分結果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質量最高。
審稿周期預計:平均審稿速度 較慢,6-12周 ,審稿周期也體現了編輯部對稿件質量的嚴格把關。
發表建議
提高稿件質量:確保研究內容具有創新性和學術價值,語言表達清晰準確,符合雜志工程:化工的格式和要求。
提前準備:根據審稿周期,建議作者提前規劃好研究和寫作進度,以便有足夠的時間進行修改和補充。同時,可以關注《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志的約稿信息,如果能夠獲得約稿機會,發表的可能性會更大。
聲明:以上內容來源于互聯網公開資料,如有不準確之處,請聯系我們進行修改。