《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志在中科院分區中的情況如下：大類學科：物理與天體物理， 分區：3區； 小類學科：ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工， 分區：3區。

中科院分區決定了SCI期刊在學術界的地位和影響力，對科研人員和學術機構具有重要的參考價值，具體如下：

對SCI期刊的評價：中科院分區通過將SCI期刊按照3年平均影響因子劃分為不同的等級，為科研人員和學術機構提供了一個評估SCI期刊學術影響力的重要依據。分區越高，說明該期刊在學科內的學術影響力越大，發表的文章質量越高。

對科研人員的成果評估：科研人員發表的論文所在的中科院分區，可以作為評估其研究成果質量的一個指標。

對科研資源的分配：中科院分區在科研資源分配方面也起到重要作用。科研機構在制定科研政策、分配科研資源時，會參考中科院分區。

對科研人員投稿的指導：中科院分區為科研人員選擇投稿期刊提供了參考。科研人員在選擇投稿期刊時，會參考中科院分區，以提高論文被接受的可能性，并增加研究成果的影響力。

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志是一本專注于工程：化工領域的國際期刊，由Springer US?出版，創刊于1981年，出版周期為Quarterly。

本期刊發表有關等離子體化學和等離子體處理基礎和應用研究的原創論文，范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎研究以及特定等離子體應用的研究。此類應用包括但不限于等離子體催化、環境處理（包括液體和氣體處理）、等離子體的生物應用（包括等離子體醫學和農業）、表面改性和沉積、粉末和納米結構合成、能源應用（包括等離子體燃燒和重整）、資源回收、等離子體與電化學的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學動力學研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用，例如相關的等離子體化學、等離子體物理或等離子體-表面相互作用；僅考慮使用等離子體處理的材料或物質的性質的稿件不在本期刊的范圍內。

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志學術影響力具體如下：

在學術影響力方面，IF影響因子為2.6，顯示出其在工程：化工學領域的學術影響力和認可度。

JCR分區：Q2

按JIF指標學科分區，在學科：ENGINEERING, CHEMICAL中為Q3，排名：91 / 170，百分位：46.8%；PHYSICS, APPLIED中為Q2，排名：81 / 179，百分位：55%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS中為Q2，排名：12 / 40，百分位：71.3%；

按JCI指標學科分區，在學科：ENGINEERING, CHEMICAL中為Q2，排名：55 / 171，百分位：68.13%；PHYSICS, APPLIED中為Q2，排名：69 / 179，百分位：61.73%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS中為Q2，排名：17 / 40，百分位：58.75%；

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志的審稿周期預計為：平均審稿速度 較慢,6-12周 ，投稿需滿足English撰寫，期刊注重原創性與學術嚴謹性，明確拒絕抄襲或一稿多投，Gold OA占比：14.18%，這使得更多的研究人員能夠免費獲取和引用這些高質量的研究成果。

該雜志其他關鍵數據：

CiteScore分區（數據版本：2024年最新版）：5.9，進一步證明了其學術貢獻和影響力。

H指數：57，年發文量：123篇

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