《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志是一本專注于物理與天體物理領域的高質量期刊，該雜志的錄用率受多種因素影響，想具體了解可聯系雜志社或咨詢在線客服。

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志的錄用率受多種因素影響，具體如下：

年發文量：《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志年發文量為：123篇。年發文量較大的期刊，相對而言錄用率會高一些。

質量與創新性：論文的科學性、嚴謹性、數據可靠性以及創新性是關鍵。

期刊分區：《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志在中科院的分區為3區，而在JCR的分區為Q2。

論文質量：包括研究設計的合理性、數據的可靠性、分析方法的科學性等。

影響力與排名：《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志IF影響因子為：2.6。高影響力的期刊通常對論文質量要求更高，錄用率相對較低。

審稿流程：嚴格的多輪審稿流程會篩選掉部分稿件，導致錄用率下降。

投稿數量：在特定時期內，若大量研究者集中向某期刊投稿，會導致稿件堆積，錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響，作者應根據自身研究特點選擇合適的期刊，并確保稿件質量以提高錄用機會，投稿前務必仔細閱讀期刊的投稿指南，并與雜志社保持良好溝通。

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志簡介

中文簡稱：等離子化學和等離子處理
國際標準簡稱：PLASMA CHEM PLASMA P
出版商：Springer US
出版周期：Quarterly
出版年份：1981年
出版地區：UNITED STATES
ISSN：0272-4324
ESSN：1572-8986
研究方向：工程技術 - 工程：化工

本期刊發表有關等離子體化學和等離子體處理基礎和應用研究的原創論文，范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎研究以及特定等離子體應用的研究。此類應用包括但不限于等離子體催化、環境處理（包括液體和氣體處理）、等離子體的生物應用（包括等離子體醫學和農業）、表面改性和沉積、粉末和納米結構合成、能源應用（包括等離子體燃燒和重整）、資源回收、等離子體與電化學的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學動力學研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用，例如相關的等離子體化學、等離子體物理或等離子體-表面相互作用；僅考慮使用等離子體處理的材料或物質的性質的稿件不在本期刊的范圍內。

在中科院分區表中，大類學科為物理與天體物理3區， 小類學科為ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工3區。

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