《Revista Pistis & Praxis-teologia E Pastoral》雜志是一本的高質量期刊，該雜志的錄用率受多種因素影響，想具體了解可聯系雜志社或咨詢在線客服。

《Revista Pistis & Praxis-teologia E Pastoral》雜志的錄用率受多種因素影響，具體如下：

年發文量：《Revista Pistis & Praxis-teologia E Pastoral》雜志年發文量為：42篇。年發文量較大的期刊，相對而言錄用率會高一些。

質量與創新性：論文的科學性、嚴謹性、數據可靠性以及創新性是關鍵。

論文質量：包括研究設計的合理性、數據的可靠性、分析方法的科學性等。

審稿流程：嚴格的多輪審稿流程會篩選掉部分稿件，導致錄用率下降。

投稿數量：在特定時期內，若大量研究者集中向某期刊投稿，會導致稿件堆積，錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響，作者應根據自身研究特點選擇合適的期刊，并確保稿件質量以提高錄用機會，投稿前務必仔細閱讀期刊的投稿指南，并與雜志社保持良好溝通。

《Revista Pistis & Praxis-teologia E Pastoral》雜志簡介

中文簡稱：Pistis & Praxis-神學與教牧雜志
國際標準簡稱：REV PISTIS PRAX-TEOL
出版商：Pontifícia Universidade Católica do Paraná
出版地區：Brazil
ISSN：1984-3755
ESSN：2175-1838
研究方向：RELIGION

Pistis & Praxis-神學與教牧雜志是一本專注于神學與教牧領域的學術期刊。它著重探討神學理論的深入研究與發展，涵蓋了從傳統的基督教神學教義到當代神學思潮的廣泛范疇。例如，可能會有關于圣經詮釋學的最新研究成果，或者是對某個神學概念在不同歷史時期演變的梳理。在教牧實踐方面，關注教會在現代社會中的角色和使命，以及牧師在牧養工作中的方法和策略。比如，研究如何運用神學理念指導社區服務工作，或者探討如何應對現代社會中的倫理挑戰。

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