《Recent Patents On Nanotechnology》雜志好發表嗎？
來源：優發表網整理 2024-09-18 10:49:51 319人看過
《Recent Patents On Nanotechnology》雜志是一本專注于材料科學領域的期刊，發表難度因多種因素而異，以下是具體分析：
《納米技術最新專利》發表全篇/短篇評論和研究文章，這些文章反映或涉及與專利相關的研究、已報告專利在研究中的應用、關于特定專利應用結果的比較討論等，以及客座編輯的納米技術領域最新專利專題。該期刊還收錄了一系列重要的納米技術最新專利。該期刊是所有參與納米技術研究的研究人員的必讀讀物。
發表難度
影響因子與分區：《Recent Patents On Nanotechnology》雜志的影響因子為2，屬于JCR分區Q3區，中科院分區中大類學科材料科學為4區， 小類學科MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY材料科學：綜合為4區，較高的影響因子和較好的分區表明其在學術界具有較高的影響力和認可度，因此對稿件的質量要求也相對較高，發表難度較大。
歷年IF值(影響因子)：
WOS分區（數據版本：2023-2024年最新版）
| 按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 292 / 438 |
33.4% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 109 / 140 |
22.5% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 114 / 179 |
36.6% |
| 按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q4 | 355 / 438 |
19.06% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 119 / 140 |
15.36% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 151 / 179 |
15.92% |
名詞解釋：
WOS即Web of Science，是全球獲取學術信息的重要數據庫，Web of Science包括自然科學、社會科學、藝術與人文領域的信息，來自全世界近9,000種最負盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學術會議多學科內容。給期刊分區時會按照某一個學科領域劃分，根據這一學科所有按照影響因子數值降序排名，然后平均分成4等份，期刊影響因子值高的就會在高分區中，最后的劃分結果分別是Q1，Q2，Q3，Q4，Q1代表質量最高。
審稿周期預計：平均審稿速度 約3.0個月 ，審稿周期也體現了編輯部對稿件質量的嚴格把關。
發表建議
提高稿件質量：確保研究內容具有創新性和學術價值，語言表達清晰準確，符合雜志材料科學：綜合的格式和要求。
提前準備：根據審稿周期，建議作者提前規劃好研究和寫作進度，以便有足夠的時間進行修改和補充。同時，可以關注《Recent Patents On Nanotechnology》雜志的約稿信息，如果能夠獲得約稿機會，發表的可能性會更大。
聲明：以上內容來源于互聯網公開資料，如有不準確之處，請聯系我們進行修改。
