《Journal Of Applied Crystallography》雜志是一本專注于材料科學領域的高質量期刊，該雜志的錄用率受多種因素影響，想具體了解可聯系雜志社或咨詢在線客服。

《Journal Of Applied Crystallography》雜志的錄用率受多種因素影響，具體如下：

年發文量：《Journal Of Applied Crystallography》雜志年發文量為：184篇。年發文量較大的期刊，相對而言錄用率會高一些。

質量與創新性：論文的科學性、嚴謹性、數據可靠性以及創新性是關鍵。

期刊分區：《Journal Of Applied Crystallography》雜志在中科院的分區為3區，而在JCR的分區為Q1。

論文質量：包括研究設計的合理性、數據的可靠性、分析方法的科學性等。

影響力與排名：《Journal Of Applied Crystallography》雜志IF影響因子為：5.2。高影響力的期刊通常對論文質量要求更高，錄用率相對較低。

審稿流程：嚴格的多輪審稿流程會篩選掉部分稿件，導致錄用率下降。

投稿數量：在特定時期內，若大量研究者集中向某期刊投稿，會導致稿件堆積，錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響，作者應根據自身研究特點選擇合適的期刊，并確保稿件質量以提高錄用機會，投稿前務必仔細閱讀期刊的投稿指南，并與雜志社保持良好溝通。

《Journal Of Applied Crystallography》雜志簡介

中文簡稱：應用晶體學雜志
國際標準簡稱：J APPL CRYSTALLOGR
出版商：International Union of Crystallography
出版周期：Bimonthly
出版年份：1968年
出版地區：ENGLAND
ISSN：1600-5767
ESSN：1600-5767
研究方向：CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARYCRYSTALLOGRAPH - CRYSTALLOGRAPHY

凝聚態研究、材料科學和生命科學中的許多研究課題都利用晶體學方法研究晶體和非晶體物質，包括中子、X 射線和電子。《應用晶體學雜志》上發表的文章重點介紹了這些方法及其在識別結構和擴散控制相變、結構-性能關系、缺陷、界面和表面的結構變化等方面的應用。還涵蓋了儀器和晶體學設備的發展、理論和解釋、數值分析和其他相關主題。該雜志是發表晶體學計算機程序信息的主要場所。

在中科院分區表中，大類學科為材料科學3區， 小類學科為CRYSTALLOGRAPHY晶體學2區。

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