《Journal Of Nanoelectronics And Optoelectronics》雜志好發(fā)表嗎？
來源：優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 10:50:59 751人看過
《Journal Of Nanoelectronics And Optoelectronics》雜志是一本專注于工程技術(shù)領(lǐng)域的期刊，發(fā)表難度因多種因素而異，以下是具體分析：
JNO 是一本跨學(xué)科的同行評審期刊，整合了納米級電子和光電子材料和器件、半導(dǎo)體的電子和光學(xué)特性、無機、有機和混合納米結(jié)構(gòu)、超晶格的電子應(yīng)用、量子結(jié)構(gòu)和其他納米結(jié)構(gòu)、新型功能材料和納米結(jié)構(gòu)的光電和光子應(yīng)用、納米電子電路和器件集成、納米制造、加工和表征技術(shù)、信息處理和光通信等領(lǐng)域的所有實驗和理論研究活動。
發(fā)表難度
影響因子與分區(qū)：《Journal Of Nanoelectronics And Optoelectronics》雜志的影響因子為0.6，屬于JCR分區(qū)Q4區(qū)，中科院分區(qū)中大類學(xué)科工程技術(shù)為4區(qū)， 小類學(xué)科ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程：電子與電氣為4區(qū)，較高的影響因子和較好的分區(qū)表明其在學(xué)術(shù)界具有較高的影響力和認可度，因此對稿件的質(zhì)量要求也相對較高，發(fā)表難度較大。
歷年IF值(影響因子)：
WOS分區(qū)（數(shù)據(jù)版本：2023-2024年最新版）
| 按JIF指標學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 319 / 352 |
9.5% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 134 / 140 |
4.6% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 171 / 179 |
4.7% |
| 按JCI指標學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 336 / 354 |
5.23% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 133 / 140 |
5.36% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 175 / 179 |
2.51% |
名詞解釋：
WOS即Web of Science，是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫，Web of Science包括自然科學(xué)、社會科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息，來自全世界近9,000種最負盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學(xué)科領(lǐng)域劃分，根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名，然后平均分成4等份，期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中，最后的劃分結(jié)果分別是Q1，Q2，Q3，Q4，Q1代表質(zhì)量最高。
審稿周期預(yù)計：平均審稿速度 約1.0個月 ，審稿周期也體現(xiàn)了編輯部對稿件質(zhì)量的嚴格把關(guān)。
發(fā)表建議
提高稿件質(zhì)量：確保研究內(nèi)容具有創(chuàng)新性和學(xué)術(shù)價值，語言表達清晰準確，符合雜志工程：電子與電氣的格式和要求。
提前準備：根據(jù)審稿周期，建議作者提前規(guī)劃好研究和寫作進度，以便有足夠的時間進行修改和補充。同時，可以關(guān)注《Journal Of Nanoelectronics And Optoelectronics》雜志的約稿信息，如果能夠獲得約稿機會，發(fā)表的可能性會更大。
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