發(fā)表《Laser & Optoelectronics Progress》雜志多久能被SCI數(shù)據(jù)庫收錄？
來源：優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 11:21:33 389人看過
通常情況下，《Laser & Optoelectronics Progress》雜志發(fā)表的文章被SCIE數(shù)據(jù)庫收錄的時間沒有固定標(biāo)準(zhǔn)，若想了解詳細(xì)、準(zhǔn)確的具體情況，建議直接與雜志社取得聯(lián)系或者向在線客服進行咨詢。
多久能被SCI數(shù)據(jù)庫一般可以歸納出以下情況：
論文發(fā)表后到在線時間：SCI論文發(fā)表后，一般需要大約3個月的時間才能在期刊官網(wǎng)上線，這是論文初次對外公開的時間點。
在線后到數(shù)據(jù)庫檢索時間：論文在線后，通常還需要1-3個月的時間才能在Web of Science（WOS）數(shù)據(jù)庫中檢索到，這個過程被稱為論文的索引或收錄。
整體時間周期：從投稿到論文被SCI數(shù)據(jù)庫收錄，整個周期大概需要一年左右的時間。具體來說，投稿后可能需要5-6個月收到接收通知，然后經(jīng)過2-3個月論文會在官網(wǎng)上線，再之后2-3個月論文會被WOS數(shù)據(jù)庫收錄。
然而，這個時間周期并不是絕對的，它受到多種因素的影響，如：期刊類型、論文質(zhì)量、數(shù)據(jù)庫更新等。
《Laser & Optoelectronics Progress》雜志已被SCIE國際知名數(shù)據(jù)庫收錄，在JCR分區(qū)中位于ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學(xué)科Q4區(qū)OPTICS學(xué)科Q4區(qū)，在CiteScore評價中位于Engineering學(xué)科的Q3區(qū)Engineering學(xué)科的Q4區(qū)具有較高的學(xué)術(shù)影響力，在該領(lǐng)域受到廣泛認(rèn)可。
WOS分區(qū)（數(shù)據(jù)版本：2023-2024年最新版）
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | ESCI | Q4 | 294 / 352 |
16.6% |
| 學(xué)科：OPTICS | ESCI | Q4 | 102 / 119 |
14.7% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | ESCI | Q4 | 302 / 354 |
14.83% |
| 學(xué)科：OPTICS | ESCI | Q4 | 107 / 120 |
11.25% |
名詞解釋：
WOS即Web of Science，是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫，Web of Science包括自然科學(xué)、社會科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息，來自全世界近9,000種最負(fù)盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學(xué)科領(lǐng)域劃分，根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名，然后平均分成4等份，期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中，最后的劃分結(jié)果分別是Q1，Q2，Q3，Q4，Q1代表質(zhì)量最高。
CiteScore分區(qū)（數(shù)據(jù)版本：2024年最新版）
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 | ||||||||||||
| 1.6 | 0.211 | 0.424 |
|
名詞解釋：
CiteScore：衡量期刊所發(fā)表文獻的平均受引用次數(shù)。
SJR:SCImago 期刊等級衡量經(jīng)過加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學(xué)科領(lǐng)域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來源出版物的標(biāo)準(zhǔn)化影響將實際受引用情況對照期刊所屬學(xué)科領(lǐng)域中預(yù)期的受引用情況進行衡量。
作為一本專注于Multiple領(lǐng)域的學(xué)術(shù)期刊，它致力于發(fā)表高質(zhì)量的研究論文和為相關(guān)領(lǐng)域的研究人員提供重要的學(xué)術(shù)資源。
該雜志出版周期是24 issues/year，平均審稿速度預(yù)計為： 。
《激光與光電子學(xué)進展》的核心目標(biāo)是關(guān)注科技發(fā)展的熱點，及時報道高新技術(shù)的前沿進展，追蹤科技研發(fā)的最新動態(tài)，介紹科學(xué)探索的歷程。它致力于為科研人員、工程師、學(xué)者以及廣大科技愛好者提供一個交流最新科技信息、分享研究成果的平臺。
雜志不僅僅關(guān)注于科技研究的理論層面，它還注重科技產(chǎn)品的展示，匯集時尚科技資訊，讓讀者能夠了解到科技產(chǎn)品的發(fā)展和應(yīng)用情況。這樣的做法有助于科技產(chǎn)品更好地服務(wù)于社會，推動科技與產(chǎn)業(yè)的深度融合。此外，該雜志還積極倡導(dǎo)科學(xué)精神，鼓勵科研人員勇于探索未知，敢于挑戰(zhàn)傳統(tǒng)觀念。它通過展示科學(xué)探索的歷程，激發(fā)讀者對科學(xué)的興趣和熱情，培養(yǎng)科學(xué)素養(yǎng)，推動科學(xué)教育的發(fā)展。
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