《Plasma Sources Science & Technology》雜志是一本專注于物理與天體物理領域的高質量期刊，該雜志的錄用率受多種因素影響，想具體了解可聯系雜志社或咨詢在線客服。

《Plasma Sources Science & Technology》雜志的錄用率受多種因素影響，具體如下：

年發文量：《Plasma Sources Science & Technology》雜志年發文量為：242篇。年發文量較大的期刊，相對而言錄用率會高一些。

質量與創新性：論文的科學性、嚴謹性、數據可靠性以及創新性是關鍵。

期刊分區：《Plasma Sources Science & Technology》雜志在中科院的分區為2區，而在JCR的分區為Q1。

論文質量：包括研究設計的合理性、數據的可靠性、分析方法的科學性等。

影響力與排名：《Plasma Sources Science & Technology》雜志IF影響因子為：3.3。高影響力的期刊通常對論文質量要求更高，錄用率相對較低。

審稿流程：嚴格的多輪審稿流程會篩選掉部分稿件，導致錄用率下降。

投稿數量：在特定時期內，若大量研究者集中向某期刊投稿，會導致稿件堆積，錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響，作者應根據自身研究特點選擇合適的期刊，并確保稿件質量以提高錄用機會，投稿前務必仔細閱讀期刊的投稿指南，并與雜志社保持良好溝通。

《Plasma Sources Science & Technology》雜志簡介

中文簡稱：等離子源科技
國際標準簡稱：PLASMA SOURCES SCI T
出版商：IOP Publishing Ltd.
出版周期：Bimonthly
出版年份：1992年
出版地區：ENGLAND
ISSN：0963-0252
ESSN：1361-6595
研究方向：物理 - 物理：流體與等離子體

等離子體源科學與技術 (PSST) 報告了在各種氣壓和等離子體密度范圍內運行的低溫等離子體和電離氣體，這些氣體具有不同的電離程度。PSST 的重點是這些等離子體的基礎科學、它們的來源以及由它們引發或維持的物理和化學過程，這些過程通過理論、計算或實驗技術闡明。PSST 還報告了研究低溫等離子體所需的新的實驗或理論得出的基礎數據（例如截面、傳輸系數）。與這些等離子體的技術和應用相關的報告應與等離子體狀態下發生的科學和基本過程緊密相關。

在中科院分區表中，大類學科為物理與天體物理2區， 小類學科為PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS物理：流體與等離子體1區。

聲明：以上內容來源于互聯網公開資料，如有不準確之處，請聯系我們進行修改。