《Topology And Its Applications》雜志是一本專注于數學領域的高質量期刊，該雜志的錄用率受多種因素影響，想具體了解可聯系雜志社或咨詢在線客服。

《Topology And Its Applications》雜志的錄用率受多種因素影響，具體如下：

年發文量：《Topology And Its Applications》雜志年發文量為：281篇。年發文量較大的期刊，相對而言錄用率會高一些。

質量與創新性：論文的科學性、嚴謹性、數據可靠性以及創新性是關鍵。

期刊分區：《Topology And Its Applications》雜志在中科院的分區為4區，而在JCR的分區為Q3。

論文質量：包括研究設計的合理性、數據的可靠性、分析方法的科學性等。

影響力與排名：《Topology And Its Applications》雜志IF影響因子為：0.6。高影響力的期刊通常對論文質量要求更高，錄用率相對較低。

審稿流程：嚴格的多輪審稿流程會篩選掉部分稿件，導致錄用率下降。

投稿數量：在特定時期內，若大量研究者集中向某期刊投稿，會導致稿件堆積，錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響，作者應根據自身研究特點選擇合適的期刊，并確保稿件質量以提高錄用機會，投稿前務必仔細閱讀期刊的投稿指南，并與雜志社保持良好溝通。

《Topology And Its Applications》雜志簡介

中文簡稱：拓撲及其應用
國際標準簡稱：TOPOL APPL
出版商：Elsevier
出版周期：Monthly
出版年份：1980年
出版地區：NETHERLANDS
ISSN：0166-8641
ESSN：1879-3207
研究方向：數學 - 數學

《拓撲學及其應用》主要關注發表篇幅適中的原創研究論文。但是，也包括了數量有限的精心挑選的綜述或說明性論文。該期刊的數學重點正如其標題所暗示的那樣：拓撲學研究。我們認為，嘗試對本期刊所理解的拓撲學進行明確的描述是不明智的。當然，該主題包括拓撲學的代數、一般、幾何和集合論方面，以及拓撲學與其他數學學科之間的相互作用領域，例如拓撲代數、拓撲動力學、函數分析、范疇論。由于拓撲學各個方面的作用不斷變化，因此主題的非特定劃分可以反映拓撲學研究的現狀。

該期刊定期發布由 J. van Mill 和 G.M. Reed 編輯的名為“拓撲學中的未解決的問題”的部分。這是 1990 年 North-Holland 出版的同名書中列出的 1100 個問題的狀態報告，由 van Mill 和 Reed 編輯。

在中科院分區表中，大類學科為數學4區， 小類學科為MATHEMATICS數學4區。

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