《Optica Applicata》雜志是一本專注于物理與天體物理領域的高質量期刊，該雜志的錄用率受多種因素影響，想具體了解可聯系雜志社或咨詢在線客服。

《Optica Applicata》雜志的錄用率受多種因素影響，具體如下：

年發文量：《Optica Applicata》雜志年發文量為：46篇。年發文量較大的期刊，相對而言錄用率會高一些。

質量與創新性：論文的科學性、嚴謹性、數據可靠性以及創新性是關鍵。

期刊分區：《Optica Applicata》雜志在中科院的分區為4區，而在JCR的分區為Q4。

論文質量：包括研究設計的合理性、數據的可靠性、分析方法的科學性等。

影響力與排名：《Optica Applicata》雜志IF影響因子為：0.7。高影響力的期刊通常對論文質量要求更高，錄用率相對較低。

審稿流程：嚴格的多輪審稿流程會篩選掉部分稿件，導致錄用率下降。

投稿數量：在特定時期內，若大量研究者集中向某期刊投稿，會導致稿件堆積，錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響，作者應根據自身研究特點選擇合適的期刊，并確保稿件質量以提高錄用機會，投稿前務必仔細閱讀期刊的投稿指南，并與雜志社保持良好溝通。

《Optica Applicata》雜志簡介

中文簡稱：應用光學
國際標準簡稱：OPT APPL
出版商：Technical University of Wroclaw
出版周期：Quarterly
出版年份：1971年
出版地區：POLAND
ISSN：0078-5466
ESSN：1899-7015
研究方向：物理 - 光學

聲光學、大氣與海洋光學、原子與分子光學、相干與統計光學、生物光學、比色法、衍射與光柵、橢圓偏振法與偏振測量法、光纖與光通信、傅里葉光學、全息術、集成光學、激光器及其應用、光探測器、光束與電子束、光源、液晶、醫用光學、超材料、微光學、非線性光學、光學與電子顯微鏡、光學計算、光學設計與制造、光學成像、光學儀器、光學材料、光學測量、光學調制、固體與薄膜的光學特性、光學傳感、光學系統及其元件、光學捕獲、驗光、光彈性、光子晶體、光子晶體光纖、光子裝置、物理光學、量子光學、慢光與快光、光譜學、光學信息的存儲與處理、超快光學。

在中科院分區表中，大類學科為物理與天體物理4區， 小類學科為OPTICS光學4區。

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