厚度與帶隙可調(diào)、原子層沉積的超薄五氧化二釩納米晶薄膜
作者：張?zhí)鞂? 王書霞; 黃田田; 魏威; 陳鑫; 戴寧 中國科學院上海技術(shù)物理研究所紅外物理國家重點實驗室; 上海200083; 中國科學院大學; 北京100049
摘要：利用原子層沉積方法制備V2O5納米片晶薄膜.薄膜厚度可以被精確控制,并對納米晶V2O5薄膜的結(jié)構(gòu)形貌、光學帶隙和拉曼振動有顯著影響.原子層沉積過程中V2O5薄膜生長的兩個階段導致薄膜具有兩個光學帶隙,這將有助于理解超薄薄膜生長與功能應用.
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紅外與毫米波學報雜志
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