碳化硼薄膜制備技術(shù)研究進(jìn)展
作者：涂溶; 胡璇; 章嵩; 王傳彬; 沈強(qiáng); 張聯(lián)盟 武漢理工大學(xué)材料復(fù)合新技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室; 武漢430070
摘要：本文歸納了碳化硼薄膜的主要特性以及近年來在功能陶瓷、熱電元件等方面的廣泛應(yīng)用。總結(jié)了目前物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)制備碳化硼薄膜的主要方法,包括磁控濺射法、離子束蒸鍍法、經(jīng)典化學(xué)氣相沉積法(c-CVD)、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法(PECVD、激光化學(xué)氣相沉積法(LCVD)和熱絲化學(xué)氣相沉積法(HFCVD)等,討論了各種沉積技術(shù)制備碳化硼薄膜工藝中各種實(shí)驗(yàn)參數(shù)對薄膜生長過程的影響,并對該領(lǐng)域今后的研究方向進(jìn)行了展望。
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現(xiàn)代技術(shù)陶瓷雜志
現(xiàn)代技術(shù)陶瓷雜志， 雙月刊，本刊重視學(xué)術(shù)導(dǎo)向，堅(jiān)持科學(xué)性、學(xué)術(shù)性、先進(jìn)性、創(chuàng)新性，刊載內(nèi)容涉及的欄目：科研與探討、綜述與述評、應(yīng)用技術(shù)、科普園地、機(jī)械裝備、信息服務(wù)等。于1993年經(jīng)新聞總署批準(zhǔn)的正規(guī)刊物。
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