摘要:光催化水分解反應在光催化的研究領域具有重要地位,尤其是具有可見光水全分解性能的半導體材料最為重要。目前能夠嚴格地按化學計量比實現可見光水全分解反應的半導體材料較少。水全分解半導體材料的匱乏是因為要實現可見光水全分解反應對半導體有兩個嚴格的要求:1)需要半導體的禁帶寬度落在1. 8~3. 2 eV的區間內;2)該半導體的導帶和價帶的電勢要分別能夠還原質子制氫和氧化水分子制氧。把紫外-可見光譜劃分為400 nm以下,500 nm以下,600 nm以下,700 nm以下和780 nm以下5個區間,著重介紹了對可見光有響應的水全分解半導體材料的最新研究進展,最后對此類材料的發展趨勢進行了展望。
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