摘要:考慮強(qiáng)場(chǎng)峰和耗盡電勢(shì)隨柵壓的變化后,使用新編的場(chǎng)效應(yīng)管能帶計(jì)算軟件計(jì)算了GaN HFET在不同柵、漏電壓下的場(chǎng)效應(yīng)管能帶和漂移及局域電子氣密度,發(fā)現(xiàn)了強(qiáng)場(chǎng)峰中耗盡區(qū)內(nèi)外漂移電子氣的耗盡臺(tái)階和能帶峰臺(tái)階以及耗盡區(qū)外的局域電子氣峰。研究了不同柵、漏電壓下的場(chǎng)效應(yīng)管能帶的耗盡過(guò)程,發(fā)現(xiàn)耗盡區(qū)接觸能帶峰后的巨大能帶畸變。提出了能帶峰耗盡的新概念。運(yùn)用應(yīng)力偏置后測(cè)試偏置下局域電子氣勢(shì)壘和非穩(wěn)態(tài)異質(zhì)結(jié)的變化及局域電子氣行為確立了應(yīng)力偏置中內(nèi)溝道夾斷和外溝道強(qiáng)場(chǎng)峰的關(guān)聯(lián)。通過(guò)施加應(yīng)力偏置后在測(cè)試偏置下的非穩(wěn)態(tài)強(qiáng)場(chǎng)峰充電過(guò)程中兩種電子氣的不同輸運(yùn)行為解釋了動(dòng)態(tài)溝道電流中的快峰和慢峰,建立起基于場(chǎng)效應(yīng)管能帶理論的新的動(dòng)態(tài)電流崩塌模型。
注:因版權(quán)方要求,不能公開全文,如需全文,請(qǐng)咨詢雜志社。
固體電子學(xué)研究與進(jìn)展雜志, 雙月刊,本刊重視學(xué)術(shù)導(dǎo)向,堅(jiān)持科學(xué)性、學(xué)術(shù)性、先進(jìn)性、創(chuàng)新性,刊載內(nèi)容涉及的欄目:三維集成射頻微系統(tǒng)(專欄)、器件物理與器件模擬、射頻微波與太赫茲、光電子學(xué)、硅微電子學(xué)、材料與工藝、研究簡(jiǎn)訊等。于1981年經(jīng)新聞總署批準(zhǔn)的正規(guī)刊物。