GCr15軸承內(nèi)圈磁粒研磨光整實驗
作者：劉冬冬; 韓冰; 陳燕; 胡玉剛 遼寧科技大學機械工程與自動化學院; 遼寧鞍山114051
摘要：利用磁粒研磨加工工藝對軸承內(nèi)圈進行光整加工實驗,以降低其表面粗糙度值為目的,通過AnsoftMaxwell磁場模擬軟件對磁極三種形狀進行仿真分析,得到磁極開軸向槽磁場強度大,在此基礎上研究了磨料粒徑、磁極轉速和研磨液用量對表面粗糙度值的影響。結果表明:當磨料粒徑為185μm時,磁極轉速為600r/min、研磨液用量為6mL,光整加工60min,軸承內(nèi)圈的表面粗糙度值由原始的0.51μm下降至0.10μm,表面的劃痕、刀微紋基本全部去除,表面形貌的均勻性較好,表面的顯微硬度由原始的820HV變?yōu)榱?00HV,研磨后的表面強度增加了。
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